大家好，来看一则(zé)突发消息(xī)。

　　美光公司(sī)在华销售的产品(pǐn)未通过(guò)网(wǎng)络(luò)安全审查

　　据网信办消息，日(rì)前，网络安全(quán)审查办(bàn)公室依法对美光公司在华销售产品进行(xíng)了网(wǎng)络安(ān)全审查。

　　审查发(fā)现(xiàn)，美光公司产品存(cún)在较严重网络安全问题隐患(huàn)，对(duì)我国关键信息基(jī)础设施供(gōng)应链(liàn)造(zào)成重大安全风险，影响我(wǒ)国国(guó)家安(ān)全(quán)。为此，网络安全审查(chá)办公(gōng)室(shì)依法作出不予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论。按照(zhào)《网络安全法(fǎ)》等法律法(fǎ)规，我国(guó)内关键信息基础(chǔ)设施的运(yùn)营者应停止采购美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光公(gōng)司产(chǎn)品进(jìn)行网(wǎng)络安全审查，目的(de)是防范产(chǎn)品(pǐn)网络安全问题危害国家关键信息基础设(shè)施安(ān)全(quán)，是维(wéi)护国家安全的必要措施。中国(guó)坚定推进高(gāo)水平对外(wài)开(kāi)放，只要遵(zū标致307如何更换玻璃水喷头 标致是合资还是国产n)守中国法律(lǜ)法规要求，欢(huān)迎各国企业(yè)、各类平台(tái)产品服(fú)务进(jìn)入中国市场。

　　3月(yuè)31日(rì)，中(zhōng)国网信网发文称(chēng)，为保(bǎo)障关键信息(xī)基础设施供(gōng)应链安全，防范产品问题隐患造(zào)成网络安全风险，维护国家安(ān)全，依据《中华(huá)人民(mín)共和国国家(jiā)安全法(fǎ)》《中华人民共和国(guó)网络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室(shì)按照《网(wǎng)络安全审查办(bàn)法》，对(duì)美光公(gōng)司（Micron）在(zài)华销(xiāo)售的产品(pǐn)实施网络安全审(shěn)查。

　　美光是美(měi)国的存储芯片行(xíng)业龙头，也标致307如何更换玻璃水喷头 标致是合资还是国产是全球存储芯片(piàn)巨头(tóu)之一(yī)，2022年收入来自(zì)中国市场(chǎng)收入从此(cǐ)前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全(quán)球(qiú) NAND Flash （闪(shǎn)存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士(shì)、美(měi)光(guāng)在全(quán)球(qiú) DRAM （内(nèi)存）市场(chǎng)份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中(zhōng)，江(jiāng)波龙、佰维(wéi)存储等公司(sī)披露(lù)过(guò)美光等国际存储厂(chǎng)商(shāng)为公司(sī)供应商。

　　美光在(zài)江波(bō)龙采(cǎi)购(gòu)占比已经显(xiǎn)著下降，至(zhì)少已经不是主(zhǔ)要大(dà)供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一大(dà)存储晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大、第二大和第三大供应商采(cǎi)购金额占比分(fēn)别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前(qián)江波龙已经在(zài)存储产业链上下游建立国内外广标致307如何更换玻璃水喷头 标致是合资还是国产泛合(hé)作。2022年(nián)年报(bào)显示，江波龙与三星、美光、西(xī)部数据等(děng)主要存(cún)储晶圆(yuán)原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下游市场的供应(yīng)优势，公司也与(yǔ)国内国产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良(liáng)好的合作。

　　有券商(shāng)此(cǐ)前(qián)就分(fēn)析，如果美(měi)光在中国区销售受到限制(zhì)，或将导致下(xià)游(yóu)客户转(zhuǎn)而采(cǎi)购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品

　　分析称，长存、长鑫的(de)上游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受益。存储(chǔ)器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结(jié)构转变使刻蚀和(hé)薄膜(mó)成为最(zuì)关键、最大(dà)量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过(guò)薄(báo)膜沉积工艺步骤，同时刻(kè)蚀(shí)目前前沿要刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来可能会(huì)更深的孔或者沟槽，催生更多设备需(xū)求。据东(dōng)京电子披露，薄膜(mó)沉积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75％。自长江(jiāng)存储被加入美(měi)国限制(zhì)名(míng)单，设备国产化进程加速，看(kàn)好拓荆科技（薄膜沉(chén)积）等相关公(gōng)司份额(é)提升，以及存储业(yè)务占比(bǐ)较(jiào)高的(de)华海清科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗）等收(shōu)入(rù)增长。

未经允许不得转载：橘子百科-橘子都知道 标致307如何更换玻璃水喷头 标致是合资还是国产